システムに関連する汚染についての情報は、このトピックに記載されています。
単独、あるいは湿気や気温など他の環境要因との組み合わせで活性化する浮遊微小粒子 (金属片や素粒子を含む) や反応性ガスは、システム・ハードウェアにリスクをもたらす可能性があります。過度の粒子レベルや高濃度の有害ガスによって発生するリスクの中には、システム・ハードウェアの誤動作や完全な機能停止の原因となり得る損傷も含まれます。以下の仕様では、このような損傷を防止するために設定された
粒子とガスの制限を指定しています。以下の制限を、絶対的な制限としてみなしたり、あるいは使用してはなりません。温度や大気中の湿気など他の多くの要因が、粒子や環境腐食性およびガスの汚染物質移動のインパクトに影響することがあるからです。
本書で指定されている特定の制限が無い場合は、人間の健康と安全の保護に合致するよう、微粒子またはガスのレベル維持の
ための慣行手順を実施する必要があります。お客様の環境の微粒子あるいはガスのレベルがシステム・ハードウェアの損傷の原因であると IBM が判断した場合、IBM は、かかる環境汚染を改善する是正措置を求める場合があります。IBM がシステム・ハードウェアの修理または交換を提供する前に、適切な是正措置の実施が必要な場合があります。かかる是正措置は、お客様の責任で実施していただきます。
以下の基準を満たす必要があります。
- ガス汚染
- ANSI/ISA 71.04-19851 準拠の重大度レベル G1。これには、銅の腐食試片の反応率は 1 カ月当たり 300 オングストローム (Å/月、≈ 0.0039 μg/cm2-時間当たりの質量増量) 未満でなければならないと規定されています2。さらに、銀の腐食試片の反応率は 300Å/月 (≈ 0.0035 μg/cm2-時間当たりの質量増量) 未満である必要があります。3。ガスの腐食性の反応監視は、ラックの吸気口側の約 5 cm 前面、床からフレーム高の 4 分の 1 および 4 分の 3 の位置で行うか、気流速度がそれよりも十分に速い位置で行う必要があります。
- 粒子汚染
- データ・センターは、ISO 14644-1 クラス 8 の清浄度レベルを満たしている必要があります。エアサイド・エコノマイザーのないデータ・センターの場合、以下のろ過方式のいずれかを選択して ISO 14644-1 クラス 8 清浄度を満足させることができます。
- MERV 8 フィルターを使用して室内の空気を連続的にろ過できます。
- データ・センターに入る空気は MERV 11 フィルター、または MERV 13 フィルター (こちらのほうが望ましい) を使用してろ過できます。
エアサイド・エコノマイザーのあるデータ・センターの場合、ISO クラス 8 清浄度を達成するフィルターの選択は、そのデータ・センター固有の条件により異なります。 粒子汚染の融解性相対湿度は、60% RH を超えていなければなりません 4。
データ・センターでは亜鉛ウィスカーがあってはなりません 5。
- ANSI/ISA-71.04.1985。 「Environmental conditions for process measurement and control systems: Airborne contaminants (プロセス計測および制御システムのための環境条件: 気中浮遊汚染物質)」。 Instrument Society of America, Research Triangle Park, NC, 1985.
- 銀の腐食生成物質の厚さの成長率 (Å/月) と質量の増量率の間での等価性の導出は、Cu2S および Cu2O が均等な比率で成長すると仮定します。
- 銀の腐食生成物質の厚さの成長率 (Å/月) と質量の増量率の間での等価性の導出は、Ag2S が唯一の腐食生成物質であると仮定します。
- 粒子汚染の融解性相対湿度とは、ほこりが湿り気を帯びるに十分な水分を吸収し、腐食性、イオン移動性、またはその両方を持つに至る相対性湿度のことです。
- 表面のちりは、データ・センターの 10 区域から、金属スタブ上の直径 1.5 cm のディスク状の導電性粘着テープ上で無作為に収集されます。 スキャン用の電子顕微鏡での粘着テープの検査で、亜鉛ウィスカーがないことが明らかになった場合は、そのデータ・センターでは亜鉛ウィスカーがなかったものと見なされます。